SX AR-PC 5000/41(Black-Protect)은 변성 고융점 탄화수소 기반의 KOH·HF 내성 보호 코팅으로, 전면 식각 동안 웨이퍼 후면을 보호합니다. 5 µm 이상 막두께에서 40% KOH와 50% 불산(HF)·BOE에 모두 견디며, 막 자체는 130°C까지 안정해 85°C KOH 식각에도 사용 가능합니다. 주문형(experimental sample/custom-made) 제품입니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 종류 | 보호 코팅 (변성 고융점 탄화수소, 웨이퍼 후면 보호) |
|---|---|
| 용제(solvent) | Ethylbenzene |
| 막두께(film thickness) | 5.0 µm @ 4000 rpm (점도 50 mPas @ 25°C) |
| 내약품성 | 40% KOH · 50% HF · BOE (전면 식각 최대 80°C, 막 자체 130°C 안정 — 85°C KOH 식각 가능) |
| 구조화(2층) | AR-P 3250 또는 AR-N 4400-05/10과 2층 시스템으로 패터닝 가능 (해상도 20 µm, 콘트라스트 1) / 플라즈마 식각 내성 |
| 광 감응 | >300 nm 비감응 (황색등 불필요) |
| 인화점·보관 | 인화점 15°C / 보관 15~22°C, 보증 6개월 |
| 공정 화학 | 스토퍼 X AR 300-74/1 (octane 주성분) · 2층 현상 AR 300-26 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 변종·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
실리콘 습식 식각(KOH 최대 85°C)·HF/BOE 식각 시 웨이퍼 후면 보호, MEMS/MST 공정, 전기도금(electroplating) 마스킹에 사용됩니다.
이 제품의 상세 제품 정보·SDS는 요청 시 제공해 드립니다. 제품 정보 요청 ✉
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.
AR-PC 5040은 PMMA 기반으로 40% KOH 식각에 적합한 범용 후면 보호 코팅입니다. SX AR-PC 5000/41은 탄화수소 기반으로 50% 고농도 불산(HF)까지 견디고 더 높은 식각 온도(85°C KOH)를 지원합니다. HF 공정이 포함되면 5000/41을 권장합니다.