AR-P 617은 MMA·메타크릴산 공중합체(copolymer, 33% MA) 기반의 고감도 positive 전자빔 레지스트(AR-P 610 시리즈)입니다. PMMA 대비 감도가 3~4배 높고 최고 10 nm급 해상도와 우수한 내열성을 가져, 나노미터 리소그래피와 2층 리프트오프의 하부(언더컷) 층으로 널리 사용됩니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Positive (copolymer) |
|---|---|
| 베이스 폴리머 | MMA·메타크릴산 공중합체 (33% MA) |
| 용제(solvent) | 1-methoxy-2-propanol (안전 용제) |
| 변종·막두께 | 617.03(고형분 3%, 90 nm) · 617.06(6%, 290 nm) · 617.08(8%, 480 nm) @ 4000 rpm |
| 해상도(resolution) | 최고 10 nm (617.03으로 30 nm 트렌치 시연) |
| 콘트라스트(contrast) | 6 |
| 감도(sensitivity) | PMMA 대비 3~4배 — softbake 온도로 조절(200°C가 180°C 대비 약 20% 고감도) |
| 내열성(thermal) | 내열 240°C / 유리전이온도(Tg) 150°C / 유전율 2.6 |
| 노광(exposure) | e-beam · DUV (248 nm) |
| 인화점·보관 | 인화점 38°C / 보관 10~22°C, 보증 6개월 |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 new · 현상액 AR 600-50, AR 600-55 · 씨너 AR 600-07 · 스토퍼 AR 600-60 · 리무버 AR 600-71, AR 300-76 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 농도(.xx)·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
나노미터 리소그래피, 마스크 제작, 평탄화(planarization)·다층 공정, 그리고 PMMA(950K) 상부층과 조합한 2층 리프트오프·전기도금 몰드의 하부 언더컷 층으로 사용됩니다. 고감도·고내열·고해상도가 핵심 경쟁력입니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.
감도가 높은 AR-P 617을 하부층, 고해상도 PMMA(AR-P 679.03 등)를 상부층으로 쓰는 2층 구조로 큰 언더컷을 형성해 리프트오프·도금에 활용합니다. AR-P 617 2층(서로 다른 softbake 온도)으로도 언더컷을 만들 수 있습니다.