AR-P 3510은 AR-P 3500(T) 시리즈의 넓은 공정 윈도우를 가진 표준 positive 포토레지스트로, 높은 감도·해상도와 우수한 밀착성으로 집적회로(IC) 제조에 널리 쓰입니다. 3500 T 변종은 0.26 N TMAH 현상에 대응하는 강건한 공정용입니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Positive (표준) |
|---|---|
| 조성 | Novolak + NQD |
| 용제(solvent) | PGMEA |
| 막두께(film thickness) | 약 2.0 µm @ 4000 rpm |
| 해상도(resolution) | AR-P 3510 0.8 µm · 3510 T 0.6 µm |
| 콘트라스트(contrast) | AR-P 3510 4.0 · 3510 T 4.5 |
| 내열성(thermal) | 최대 120°C / 유리전이온도 108°C |
| 인화점·보관 | 42°C / 10~18°C |
| 노광 | broadband UV · i-line · g-line |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 · 현상액 AR 300-26 (T형: 0.26 N TMAH AR 300-44) · 씨너 AR 300-12 · 리무버 AR 300-76 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 변종·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
집적회로(IC) 제조, 범용 패터닝, 리프트오프 등에 사용됩니다. 표준 NQD 현상 라인(AR-P 3510)과 TMAH 현상 라인(AR-P 3510 T) 중 공정에 맞게 선택할 수 있습니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.