AR-P 3200은 전기도금·마이크로시스템(MEMS)용 후막 positive 포토레지스트 시리즈입니다. 높은 감도와 해상도, 가파른 에지(edge steepness)로 두꺼운 막에서도 치수 정확도가 높고 도금에 안정적입니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Positive (후막) |
|---|---|
| 조성 | Novolak + NQD |
| 용제(solvent) | PGMEA |
| 변종·막두께 | AR-P 3210(10 µm, 최대 40 µm) · 3220(투명, 다중 코팅 최대 100 µm) · 3250(최대 20 µm) |
| 해상도(resolution) | 3210 4.0 µm · 3220 3.0 µm · 3250 1.2 µm |
| 콘트라스트(contrast) | 2.0~2.5 (3220은 그레이톤 3D 구조에 활용) |
| 인화점·보관 | 42°C / 10~18°C, 유리전이온도 108°C |
| 노광 | broadband UV · i-line · g-line, 도금 안정·플라즈마 식각 내성 |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 · 현상액 AR 300-26 · 씨너 AR 300-12 · 리무버 AR 300-76/AR 600-71 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 변종·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
전기도금 몰드, MEMS, 그레이톤 3D 구조(예: 28 µm 피라미드, AR-P 3220) 등 후막 공정에 사용됩니다. 변종(3210/3220/3250)에 따라 막두께·해상도가 다릅니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.