AR-N 7520은 ALLRESIST의 Novolak·유기 가교제 기반 비화학증폭형(non-CAR) negative 전자빔 레지스트입니다. 전자빔뿐 아니라 DUV·i-line(248~365 nm)에서도 negative로 작동해 전자빔과 UV 노광을 결합하는 mix & match 공정에 적합하며, 매우 높은 콘트라스트와 고해상도를 제공합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Negative tone (non-CAR) |
|---|---|
| 베이스 폴리머 | Novolak + 유기 가교제 |
| 용제(solvent) | PGMEA (안전 용제) |
| 변종·막두께 | 7520.17(고형분 17%, ~0.4 µm) · 7520.11(11%, ~0.2 µm) · 7520.07(7%, ~0.1 µm) @ 4000 rpm |
| 해상도(resolution) | 최고 28 nm (7520.07 new로 30 nm 라인 @ 막두께 90 nm) |
| 콘트라스트(contrast) | 10 |
| 내열성(thermal) | 최대 140°C / 유리전이온도 102°C |
| 노광(exposure) | e-beam · DUV · i-line (248~365 nm에서 negative, mix & match) |
| 인화점·보관 | 인화점 42°C / 보관 10~18°C |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 · 현상액 AR 300-47, AR 300-46 · 씨너 AR 300-12 · 리무버 AR 300-73, AR 300-76 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 농도(.xx)·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
집적회로 제조, 전자빔+UV mix & match 공정, 고해상도 negative 패터닝에 사용됩니다. non-CAR 특유의 공정 안정성과 e-beam/UV 겸용성이 경쟁력입니다. (참고: 일반 AR-N 7520은 7520 new 대비 약 8배 저감도로, 더 높은 선량으로 정밀한 구조 에지를 얻는 용도입니다.)
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.
대면적은 빠른 UV 노광으로, 미세부는 전자빔으로 같은 레지스트에 노광하는 방식입니다. AR-N 7520은 두 노광 모두에서 negative로 작동해 이를 지원합니다.