AR-N 7500은 ALLRESIST의 Novolak·나프토퀴논 다이아자이드 기반 비화학증폭형(non-CAR) negative 전자빔 레지스트입니다. 전자빔뿐 아니라 DUV·i-line·g-line에서도 작동하며, 노광 파장에 따라 positive 또는 negative로 동작하는 mix & match 공정에 적합합니다. 중간 감도와 고해상도, 그리고 CAR이 아닌 구조 특유의 공정 안정성이 특징입니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Negative tone (non-CAR, 노광 조건에 따라 positive 가능) |
|---|---|
| 베이스 폴리머 | Novolak + 나프토퀴논 다이아자이드 + 유기 가교제 |
| 용제(solvent) | PGMEA (안전 용제) |
| 변종·막두께 | 7500.18(고형분 18%, 0.4 µm) · 7500.08(8%, 0.1 µm) @ 4000 rpm |
| 해상도(resolution) | 최고 40 nm (7500.18로 70 nm 라인 격자 시연) |
| 콘트라스트(contrast) | 5 |
| 내열성(thermal) | 최대 120°C / 유리전이온도 108°C / 유전율 3.1 |
| 노광(exposure) | e-beam · DUV · i-line · g-line (310~450 nm, 파장에 따라 positive/negative) |
| 인화점·보관 | 인화점 42°C / 보관 10~18°C, 보증 6개월 |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 new · 현상액 AR 300-46, AR 300-47 · 씨너 AR 300-12 · 리무버 AR 300-76, AR 300-73 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 농도(.xx)·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
집적회로 제조, 전자빔+UV mix & match 공정, 고해상도 negative 패터닝에 사용됩니다. 노광 파장에 따라 톤을 선택할 수 있어 한 가지 레지스트로 다양한 공정에 대응할 수 있습니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.
둘 다 non-CAR negative 전자빔 레지스트이지만, AR-N 7500은 해상도 40 nm·콘트라스트 5·내열 120°C이고, AR-N 7520 new는 해상도 28 nm·콘트라스트 10·내열 140°C로 더 높은 해상도와 콘트라스트를 제공합니다. 용도에 맞게 선택하시면 됩니다.