AR-N 4610은 AR-N 4600(Atlas 46) 계열의 후막 negative 포토레지스트입니다. 전기도금·MEMS·LIGA(20 µm 미만)용으로, 매우 높은 감도와 우수한 밀착성을 가지며 형광 염료를 첨가한 변종(Atlas 46 S)도 제공됩니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Negative |
|---|---|
| 조성 | poly[(o-cresyl glycidyl ether)-co-formaldehyde] + 산발생제 |
| 용제(solvent) | PGMEA |
| 막두께(film thickness) | 약 10 µm @ 1000 rpm (안정 막 5~15 µm) |
| 해상도(resolution) | 2 µm |
| 콘트라스트(contrast) | 4 |
| 감도(sensitivity) | 약 110~160 mJ/cm² @ 10 µm (broadband UV) |
| 열적 특성 | 유리전이온도 34~44°C / 연화점 99°C / 인화점 46°C, 보관 10~22°C |
| 노광 | i-line · broadband UV |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 new · 현상액 AR 300-12(표준)/AR 600-07(고속)/AR 600-70(완만) · 스토퍼 AR 600-60 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 변종·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
전기도금 몰드, MEMS, LIGA(20 µm 미만), 브리지 구조, 형광 레지스트(Atlas 46 S) 등에 사용됩니다. 정확한 변종(AR-N 4600-10 / 4610-10 / 4620-10)과 사양은 데이터시트로 안내해 드립니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.