AR-N 4340은 AR-N 4300 시리즈의 화학증폭형(CAR) negative 포토레지스트로, mid-UV(i-line/g-line)에서 매우 높은 감도와 우수한 해상도를 제공합니다. 언더컷(리프트오프) 프로파일이 가능하고 후처리 시 220°C까지 내열합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Negative (CAR, 화학증폭형) |
|---|---|
| 조성 | Novolak + 광산발생제(PAG) + 아민 가교제 |
| 용제(solvent) | PGMEA |
| 막두께(film thickness) | 약 1.4 µm @ 4000 rpm (구조 0.7 µm L/S) |
| 해상도(resolution) | 0.5 µm (최적 포커스 0.8 µm) |
| 콘트라스트(contrast) | 5.0 |
| 감도(sensitivity) | 약 56 mJ/cm² (1 µm 라인) / E0 ≈ 140 mJ/cm² @ 1.4 µm |
| 내열성(thermal) | 후처리(플러드 노광+베이크) 시 최대 220°C / 유리전이온도 102°C |
| 노광 | i-line · g-line |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 · 현상액 AR 300-475 · 씨너 AR 300-12 · 리무버 AR 300-76, AR 300-72 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 변종·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
집적회로, sub-µm 고해상도 negative 패터닝, 리프트오프 등에 사용됩니다. 현상은 전용 현상액 AR 300-475를 사용합니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.