AR-BR 5460은 AR-BR 5400 시리즈의 2층(2L) 리프트오프용 bottom resist(하부층)입니다. 그 자체는 광에 감응하지 않으며, positive(AR-P 3500 계열) 또는 negative(SX AR-N 4340/7) 상부 레지스트와 조합해 등방성 현상으로 언더컷을 형성합니다. 광투과·내열(현상 후 최대 250°C) 구조가 필요한 리프트오프에 적합합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 종류 | Bottom resist (2층 리프트오프 하부층, 비감광) |
|---|---|
| 베이스 폴리머 | 메틸메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체(copolymer) |
| 용제(solvent) | PM (AR-BR 5460) |
| 막두께(film thickness) | 1.0 µm @ 4000 rpm (5460) — 2000 rpm 코팅 시 약 1.4 µm |
| 상부 레지스트 해상도 | 3.0 µm (2층, AR-P 3510 조합 기준) |
| 콘트라스트 | 리프트오프(언더컷 형성용) |
| 내열성(thermal) | 최대 140°C(AR-P 3500 조합) · 현상 후 구조 250°C까지 안정 |
| 광투과 | 270 nm~IR 광투과 구조 형성 가능 |
| 인화점·보관 | 인화점 30°C / 보관 10~22°C |
| 현상(2층) | 수계 알칼리 현상 AR 300-47 (1:1) · 밀착 AR 300-80 · 씨너 AR 600-07 · 리무버 AR 300-76, AR 300-73 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 변종·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
금속 증착·스퍼터 리프트오프 패터닝, 광투과·내열이 필요한 2층 리프트오프 구조 제작에 사용됩니다. 두 막의 두께 비로 언더컷 형상을 조절하며, 강한 리프트오프 효과를 위해서는 얇은 상부 레지스트 + 두꺼운 하부 copolymer 조합이 유리합니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.
AR-BR 5460은 고형분 12%·막두께 1.0 µm, AR-BR 5480은 고형분 9%·막두께 0.5 µm로 더 얇습니다. 필요한 하부층 두께와 언더컷 크기에 따라 선택하시면 됩니다.