AR 600-56은 AR-P 617과 PMMA(AR-P 630-670 시리즈) 전용 현상액입니다. MIBK(methyl isobutyl ketone) 기반 약현상(weaker developer) 계열로, dark erosion이 적어 높은 해상도를 얻는 데 유리합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 종류 | 전자빔 레지스트 현상액 (PMMA·AR-P 617 전용) |
|---|---|
| 주성분 | Methyl isobutyl ketone (MIBK) |
| 특성 | 약현상(weaker developer) — dark erosion 적음, 고해상도 |
| 적용 레지스트 | AR-P 617 (3분) · AR-P 630-670 시리즈(PMMA, 1~3분) |
| 밀도·인화점 | 0.788 g/cm³ @ 20°C / 인화점 12°C |
| 조합 | 스토퍼 AR 600-60 첨가 시 콘트라스트 상승(감도는 다소 감소) |
사양·사용 조건은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준이며, 적용 레지스트·공정에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
AR-P 617 및 PMMA(AR-P 630-670 시리즈) 전자빔 레지스트의 고해상도 현상 공정에 사용됩니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.